domenica 27 luglio 2008

il Technion di Haifa

Israele, più energia “graffiando” le celle solari

26.07.08 - Gli ingegneri del Technion-Israel Institute of Technology sono riusciti ad ottenere più produzione di energia dalle celle solari di silicio multicristalline incidendone la superficie. La ricerca è sostenuta dal Programma Energia, Ambiente e Sviluppo Sostenibile dell’Unione europea che ha lo scopo di migliorare l’efficacia della tecnologia solare, come il progetto FANTASI che si occupa delle celle solari al silicio multicristallino (mc-Si). Il Tehnion-Israel Institute of Technology (TIIT), partner del consorzio FANTASI, si è assunto il compito di ottimizzare una tecnica di incisione chiamata dissoluzione da potenziale negativo (NPD). Il trattamento della superficie mc-Si migliora le prestazioni, ma finora è stata una procedura costosa.
Gli scienziati dei materiali israeliani hanno iniziato a lavorare con il silicio monocristallino ed hanno poi ampliato i risultati al multi silicio e al silicio EFG (Edge-defined film-fed growth). La loro campagna di esperimenti ha rivelato che è necessario mantenere un potenziale negativo di -20 V o inferiore. Inoltre, hanno identificato un tasso massimo di rimozione del silicio quando la concentrazione alcalina della soluzione veniva mantenuta tra 20-24% ... http://www.heos.it/

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